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    酸铜处理剂(去蓝膜剂)说明书

    放大字体  缩小字体 发布日期:2009-10-10   作者:佚名
    铜之家讯:   ZS-酸铜处理剂(去蓝膜剂)德国技术,适用于染料型酸铜光亮剂溶液。由于不易发现酸铜镀层异常现象,却出现在亮镍镀层上

     

      ZS-酸处理剂(去蓝膜剂)德国技术,适用于染料型酸铜光亮剂溶液。由于不易发现酸铜镀层异常现象,却出现在亮镍镀层上的蓝雾现象,实际是酸铜故障,此时可选用酸铜处理剂(去蓝膜剂)对溶液进行处理,选用本产品对溶液进行处理,使用简便,无需停产并有立竿见影效果。

      使用方法

      1.添加量0.05-0.1g/L,用适量蒸馏水把粉剂溶解后加入酸铜溶液中,搅拌均匀即可;

      2.当加入本剂后发现酸铜镀层光泽减低或不光亮时,说明镀液中光亮剂少了,可再适量补加、调平,直至镀层光亮。

      3.使用本剂前,应先经小样试验后,再应用到大槽生产中去,否则,过量添加会使光亮剂失调。机理:染料类酸铜光亮剂中开缸剂(C剂)过多,无法用一般的药剂处理掉,ZS去蓝膜剂-才能使镀层光亮而不发生蓝雾现象。

      附:染料型酸铜光亮剂的故障原因与解决方法(供参考)

      酸铜生产中多用染料光亮剂的牌号有210;510;910及左右数号之光亮剂,整平剂A,光亮剂B,开缸剂C剂。

    故障 原因 解决方法
    光亮、整平差 光亮剂A、B、C配比不当 调平补充
    槽温过高(大于35℃) 降温
    氯离子低 加盐酸(盐酸浓度36%)
    硫酸铜含量过低(低谟180g/L) 补加硫酸铜调整
    硫酸过高(大于90g/L)
    出光慢、大电流区易烧焦、整平差 铜低酸高 调平
    总浓度过低 调平
    氯根低 补加盐酸
    分散性差 光亮剂失调: A剂过多或过少,小电流处暗红,发黑无光;孔眼处及钩印无光,“带眼镜”; 大电流处烧焦; 易产生麻孔; 光亮剂过少,大电流不焦小电流不亮 加C和B调整; A剂多,同时B、C也多,以双氧水处理
    B剂过量: 大电流不烧焦; 中、小电流不光亮 加A,或多加些A,少加点C
    C剂过量:开大电流不易烧焦,加A剂调整失灵; 起亮性很慢 活性炭处理(双氧水无用)
    挂具印重 A剂过量 调平(B、C)或双氧水
    槽温高 降温
    光剂总含量高 控制,调平
    出亮快(小电流区不易亮),B多椅C过多A少 加A调平
    针孔、麻点 A剂过多 双氧水处理
    A剂质量问题 紫色悬浮物多,过滤
    A、B、C配平差 调平
    氯根低 调加
    槽液要大处理 加温搅拌,双氧水、活性光、硫化钠处理
    硫酸含量少 调高
    液中硫酸铜减少得快,阳极钝化 阳极面积小 增加阳极
    阳极电流过大 增加阳极
    原镀液中铜含量就低 补充硫酸铜
    氯根高(白灰状物附其阳极上) 加锌粉处理
    常出现局部挂具不亮,甚至同一挂具上局部不亮 似乎双极性电镀 检查漏电否
    阳极导电不良 清理导电
    橘皮、波纹(光亮尚可,分散良好) C高,A剂也高,但未有麻点出现 调平
    镀层大电流处易呈海绵状烧焦 液温过低而电流过大 用钦质加热器恒温控制加热至约10℃;适当减洗小电流
    镀液过稀,硫酸铜过少 分析或试验补加
    阴阳极距离过近 改进设备,加宽镀槽
    工件装挂不合理,工件上远近阳极距离差过大 改进装挂
    搅拌不良 改进搅拌
    工件大电流密度区呈白色粗糙或暗铜状 Cl-过少 试验补加化学纯氯化钠(40~50) mg/L
    相同电流下电压比正常值高出1伏以上 镀液中硫酸少,因而电导率低 补加分析纯硫酸使电压降至正常值(新配液应作纪录)
    整流器输出直流回路导电不良 检查各连接点,改进不良导电部位
    电流不断下降而电压不断上升(液中硫酸铜含量不断下降) 阳极部分或全部钝化;铜阳极含磷量过高 换用含磷(0.03~0.06) %低磷优质阳极材料
    阳极面积过小:阳极本身配置不足阳极消耗后未及时补加   增加阳极个数及时检查补充阳极(过窄小的或头子装入钛筐中继续用);若本身系杨筐加磷铜球、块,应及时补够
    硫酸铜过多,液温低时结晶而堵塞阳极袋孔(或泥渣堵孔) 清洗阳极袋。若硫酸铜过多,应冲稀镀液,补加硫酸等林料
    硫酸过少,阳极溶解不良 试验或分析补加硫酸
    部分阳极导电不良(此时板上无或很少黑色磷膜) 清洁导电部位,保证导电良好
    镀层粗糙 镀液太脏,机械杂质过多 必须对镀液循环过滤,过滤机表压高时及时清洗滤芯,安装良好
    基体本身表面状况差,磨抛不良 加强镀前平整化处理
    预镀层粗糙 检查预镀层粗糙原因,加以排除
    镀铜前清洗水太脏 更换镀前清洗水
    复杂件深凹处或大平面件中间部位镀铜层发花,甚至起泡 预镀不良,局部在酸铜液中产生置换铜或基体被腐蚀:预镀层太薄     增大预镀电流,延长预镀时间
    预镀液太脏,预镀层孔隙高 过滤预镀液
    预镀液分散能力、深镀力差 调整预镀液
    镀铜时工件未及时给电,预镀铜层局部溶解 镀铜时应先开足电压,迅速入槽通电
    工件装挂不良,导电不好 检查并纠正,保证导电良好
    整槽工件光亮整平性差 光亮剂过少 试验补加
    镀液太稀 分析或试验调整镀液
    电流太小,时间过短 改进操作
    工件大电流密度区光亮整平性差 硫酸铜过少而硫酸相对过多 分析或试验补充
    光亮剂少,特别是B剂少 霍尔槽试验补加
    复杂件深凹处或大平面件中间部位(低电流密度区)光亮性差 硫酸过少,而硫酸铜过多 分析或试验补加、调整
    光亮剂过少,特别是A剂少 试验补加
    镀液中氪离子过多 除氯后试验
    直流电源波形不良:未采用低纹波直流电源直流电源内部损坏三相整流电源供电缺相   换用低纹波直流电源用示波器确认后,修理电源寻找原因,加以解决
    工件发花,光亮与不光亮明显分界 光亮剂过多:未坚持少加勤加光亮剂   光亮剂一次加入过多(未冲稀、未计量、凭感觉乱加造成)   光亮剂必须坚持“勤加少加”原则按1m l/L量将30 %过氧化氢冲稀10倍以上,在不断搅拌下慢慢加入,再搅拌10余分钟,氧化破坏部分光亮剂
    亮铜层上亮镍结合力差 镀酸铜后未作除膜处理   增加除膜工序    
    化学除膜不良:除膜液太稀,未及时加料除膜时间太短,工件未作摆动、上下提升等除膜液太脏,有机杂质多   及时对除膜液补加材料改进除膜操作更换除膜液
    亮铜液使用日久,有机杂质积累过多 大处理亮铜液:加入(5~8) ml/L过氧化氢,加热搅拌8小时以上(60℃),加分析纯活性炭(5~8) g/L,搅拌1小时,沉淀3小时,彻底过滤镀液,试验呈暗铜后,按新开缸加入开缸剂。若活性炭引入氯离子过多,再作除氯处理
    蓝雾 光剂或有机物多,B剂是否过量   处理:A和湿润剂容易被碳粉吸附,如果加入5g/l活性炭,经过强力搅拌,几乎100%被清理掉了。B和MU(MU中的一部分)很难被活性炭吸附,用很多的双氧水和活性炭,也只能打掉部分。
    镀镍后有蓝雾 酸铜光剂过量,在铜层看不到蓝雾,却反映在亮镍层上 加入酸铜处理剂,镀镍后光亮不发蓝雾,适当补加光亮剂
    阳极表面会出现一层黑膜或灰白色胶状膜 氯离子浓度


    以上信息仅供参考

     
     
     
     

     

     
     
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