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    一种生产铜始极片的电解液添加剂及使用方法

    放大字体  缩小字体 发布日期:2009-05-08   作者:佚名
    铜之家讯:申请号/专利号: 200710303635本发明涉及一种生产铜始极片的电解液添加剂及使用方法,其特征在于该添加剂由按比例混合的安德特、明

    申请号/专利号: 200710303635 本发明涉及一种生产始极片的电解液添加剂及使用方法,其特征在于该添加剂由按比例混合的安德特、明胶、硫脲、盐酸组成,其质量配比组成为安德特∶明胶∶硫脲∶HCl=1∶(3.27~4.31)∶(1.23~1.72)∶(0.13~0.19)。本方法的特点是产出的始极片化学成分杂质总和低,且物理表面光滑、结晶致密、薄厚均匀,经过联动机组加工后悬垂度较好,是一种能稳定并提高高纯阴极铜质量的始极片生产工艺技术。

    申请日: 2007年12月20日
    公开日: 2008年10月01日
    授权公告日:
    申请人/专利权人: 金川集团有限公司
    申请人地址: 甘肃省金昌市金川路98号
    发明设计人: 张强林;向天龙;蒲彦雄;肖银广;白凯;任智顺;王霞;张金清;刘军;赵秀花;张素霞;程霞霞;王文龙
    专利代理机构: 中国有色金属工业专利中心
    代理人: 李迎春
    专利类型: 发明专利
    分类号: C25C1/12;C25C7/00

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