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    塑料电镀铜工艺的技术介绍

    放大字体  缩小字体 发布日期:2009-01-06   作者:佚名
    铜之家讯:   塑料电镀制品具有优良的性能,塑料件电镀后,既保持了塑料的质量轻、抗蚀性能强、成型容易等特点,又赋予其金属的导

       塑料电镀制品具有优良的性能,塑料件电镀后,既保持了塑料的质量轻、抗蚀性能强、成型容易等特点,又赋予其金属的导电性、装饰性、导磁性、可焊性等,因此塑料电镀制品应用非常广泛。近年来,通讯技术快速发展,随着移动电话的普及,人们对其外壳材料的电磁屏蔽性能提出了更高的要求。

        常规的塑料电镀工艺流程为:除油→粗化→胶体钯活化→加速→化学镀铜→电镀铜。由于化学镀铜过程中使用具有致癌的甲醛作还原剂,严重威胁操作者的安全。1963年D.A.Radovsky[1]发明了直接电镀,该技术在20世纪80年代实现工业化,此时的直接电镀技术一般用在印刷电路板的孔金属化工艺中。1996年,Atotech公司发明了Futuron工艺[2],主要用在ABS及其合金材料上,该工艺的流程为:除油→粗化→Futuron活化→铜置换锡→电镀铜。该工艺虽然有其优越性,但也有不可避免的缺点,如容易漏镀、起镀慢、价格贵。

        MacdermidCo.公司于1991年发明了Phoenix工艺[3]。它的特点是使用次亚磷酸钠为还原剂代替甲醛,先发生化学镀铜,使塑料表面覆盖一导电铜层,然后在化学镀铜溶液中进行直接电镀铜。该工艺的特点是:(1)用次亚磷酸钠做还原剂代替了甲醛;(2)用化学镀做底层,避免了漏镀;(3)化学镀后进行电镀很容易。但该工艺只应用在印刷电路板上,如用于香港OPC电路板厂的多层板上,但是没有将其用在ABS塑料及其合金上。

        以次亚磷酸钠作还原剂化学镀铜,镀层厚度一般小于1μm,沉积的

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